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g跟ml一样吗洗发水,g和ml有区别吗 国家知识产权局:将修改完善集成电路布图设计保护条例,适应大规模集成电路发展需要

  金融界4月24日消息,国(guó)家知识(shí)产权局局长(zhǎng)申(shēn)长雨在新闻发布(bù)会(huì)上(shàng)表示,将统筹推进各类知(zhī)识产权法律法规和制度规则的制修(xiū)订工(gōng)作。其中,修(xiū)改完(wán)善(shàn)集成电路(lù)布图(tú)设计保护条(tiáo)例(lì),适应大规模(mó)集(jí)成电路发展需要,助力(lì)芯片产业做大做强,服务数字g跟ml一样吗洗发水,g和ml有区别吗经济(jì)更好发展。

  加强大数据、人(rén)工(gōng)智能(néng)、基(jī)因技(jì)术等新领域新业(yè)态知识(shí)产权规则研究,助力相关领域创新(xīn)发展(zhǎn)。同时,积(jī)极参与知识产权(quán)国际(jì)规(guī)则(zé)制定,更好对(duì)接高标准国际经贸规(guī)则,助力高水平对外开(kāi)放。

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